南大光电投建193nm光刻胶项目,一期总投资9.6亿元

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来源: 集微网   发布者:集微网
热度46票  共0条评论】【我要评论 时间:2018年1月13日 00:44
集微网消息,1月12日晚间,南大光电发布公告,公司与宁波经济技术开发区管理委员会签订《投资协议书》,公司拟在宁波开发区投资建设高端集成电路制造用193nm光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,项目总用地面积约86亩,其中一期总投资预计约9.6亿元。

对于签订此次投资协议的原因,南大光电表示,是为了抢抓机遇,加快项目进度,落实公司长期发展战略,利用自身优势,推动中国高端光刻胶产业的快速发展。

南大光电表示,公司拟实施高端集成电路制造用 193nm 光刻胶材料以及配套关键材料研发及生产项目,目前处于研发阶段。而一旦此次签署的投建项目落地,达产后年产值预计约 3.75 亿元,将对南大光电的产品升级和市场营收带来直接的效率。 



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