拓荆科技：“ALD设备研发与产业化项目”进展顺利目前厂房已基本完成建设

作者：秋贤

2023-02-13

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近日，拓荆科技在接受机构调研时表示，公司 IPO 募投项目三“ALD 设备研发与产业化项目”进展顺利，目前厂房已基本完成建设，已进行 ALD 产品研发工作。公司超募项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”，正在按照实施计划顺利推进，主要用于 ALD 设备及工艺的研发，并实现以临港为中心客户群所需半导体设备的产业化。

拓荆科技目前主要产品包括 PECVD 设备、ALD 设备和SACVD 设备三个产品系列。根据公司初步统计，2022 年度的营业收入构成仍以这三类设备产品为主。根据公司现阶段经营计划，预计 2023 年产品结构不会有较大调整。公司产品已广泛应用于国内成熟制程集成电路制造产线。

根据 SEMI 等数据统计，2021 年全球薄膜沉积设备市场份额约 210 亿美元，ALD 设备占比约为 11%，这里包括了 Thermal ALD、PE-ALD 等产品。其称，公司在薄膜沉积设备领域已累积了丰富的技术和产品经验，现在已推出的 PE-ALD产品已实现产业化，并在此基础上，开发了 Thermal ALD 产品。

对于产品布局，拓荆科技表示，公司将在现有产品基础上，持续提升产品竞争力，不断扩大市场规模，并继续在高端半导体薄膜设备领域深耕，围绕 CVD 现有市场做深做精，不断在细分领域内拓展产品、工艺的覆盖面，扩大市场占有率。