【力度】国务院:加大对侵犯商标专利等知识产权行为的打击力度

作者: 爱集微
2020-11-13 {{format_view(4846)}}
相关舆情
AI解读
生成海报
【力度】国务院:加大对侵犯商标专利等知识产权行为的打击力度

1.国务院:加大对侵犯商标专利等知识产权行为的打击力度

2.【专利解密】美新半导体改进磁传感器投入量产

3.逆势增长!1-10月我国发明专利申请量达123.2万件

4.ITC驳回SK Innovation关于LG Chem诉讼无效的主张

5.法院裁定准许歌尔股份撤回对敏芯股份的不正当竞争诉讼

6.魅族申请 “Flyme For WATCH”商标,智能手表产品即将上线

1.国务院:加大对侵犯商标专利等知识产权行为的打击力度



日前,国务院办公厅印发《全国深化“放管服”改革优化营商环境电视电话会议重点任务分工方案》(以下简称“《方案》”),对下一阶段深化“放管服”改革优化营商环境工作作出了部署。

《方案》从五大方面出发提出了25项重点任务,其中在“管要管出公平、管出质量”方面提及了知识产权相关内容。

具体来看,2020年底前制定完善行政执法过程中的商标、专利侵权判断标准。加快在专利等领域引入惩罚性赔偿制度。加大对侵犯商标、专利、商业秘密等知识产权,以及制售假冒伪劣学生用品、成品油、汽车配件等违法犯罪行为的打击力度,挂牌督办一批重点案件。(市场监管总局、国家知识产权局、公安部、司法部等国务院相关部门及各地区按职责分工负责)

便利企业获取各类创新资源,加强专利等知识产权信息服务,对专利权人有意愿开放许可的专利,集中公开相关专利基础数据、交易费用等信息,方便企业获取和实施。引导学术论文等数据服务提供商降低论文等资源获取费用,推动研究机构、高校等依法依规向社会开放最新研究成果信息。大幅压减网站备案登记时间。(教育部、科技部、工业和信息化部、国家知识产权局等国务院相关部门及各地区按职责分工负责)

细化制定商标审查审理标准,提高商标实质性审查效率,明确近似商标判断、不以使用为目的的恶意商标认定等方面的具体规定。2020年底前将商标变更、续展业务办理时限压缩一半,分别减至1个月、半个月。(国家知识产权局负责)

值得注意的是,今年10月17日,十三届全国人大常委会第二十二次会议表决通过修改后的专利法,将于2021年6月1日起施行。此次修改主要包括加强对专利权人合法权益的保护、促进专利实施和运用、完善专利授权制度等方面。(校对/若冰)


2.【专利解密】美新半导体改进磁传感器投入量产

【嘉德点评】美新半导体的磁阻传感器制作专利,提供了一种单芯片单轴或多轴磁阻传感器及其制造方法,通过增加化学或物理清洁和磁性感应薄膜的覆盖保护,降低了传感器的孔接触电阻,实现了集成电路与上层传感器更加优良的连接。

集微网消息,在现代高性能工业、汽车、无人机等产业中,磁传感器都作为关键器件发挥着重要作用,而美新半导体作为全球顶尖的微电子和半导体科技企业,将信号处理电路和多轴AMR磁感应单元集成到单个芯片上,大幅度提升了产品的性能和稳定性。

在传统的多轴磁传感器制造工艺中,首先需要蚀刻与传感器连接的通孔,沉积厚介质层,蚀刻形成斜坡。接着再次对通孔蚀刻,露出下层电路,利用蚀刻技术保留感应磁阻图形,最后直接沉积传感器互连金属连接PVO集成电路和感应磁阻图形。在这种传统的制造工艺中,无法去除PVO孔内的金属表面氧化物,导致孔接触电阻异常甚至传感器失效。

为了解决这一问题,美新半导体于2018年6月12日提出一项名为“一种单芯片单轴或多轴磁阻传感器及其制造方法”的发明专利(申请号:201810597724.7),申请人为美新半导体(无锡)有限公司。



图1 单芯片磁阻传感器制作流程图

图1展示了单芯片单轴或多轴磁阻传感器的制造方法流程示意图,首先提供有集成电路的晶圆210,其上表面形成有钝化层,基底为硅(步骤110),紧接着在钝化层上刻蚀出与磁阻传感器连接的第一通孔,露出集成电路的金属连线(步骤120),在刻蚀有第一通孔钝化层的上表面沉积绝缘材料厚介质层(步骤130),然后对厚介质层进行光刻、蚀刻,形成斜坡以及凹槽(步骤140),对第一通孔上方介质层进行蚀刻,形成第二通孔,并露出下层金属连线(步骤150)。接下来对厚介质层表面以及金属连线进行清洗,去除金属表面氧化物(步骤160),并直接沉积形成磁性感应薄膜图形(步骤170),最后在上面沉积传感器互连金属层,蚀刻形成互连金属层图形,从而实现集成电路和感应磁阻图形的电连接(步骤180)。

从上述磁传感器制作流程图中可看出,在沉积磁性感应薄膜前,先用物理或化学方法清洗第二通孔内的金属连线表面,去除金属氧化物,并在沉积磁感应薄膜后进行图形光刻、刻蚀时保留第二通孔内的磁性感应薄膜,保护第二通孔内的金属不氧化。

简而言之,美新半导体的这项专利提供了一种单芯片单轴或多轴磁阻传感器及其制造方法,通过增加化学或物理清洁和磁性感应薄膜的覆盖保护,降低了传感器的孔接触电阻,实现了集成电路与上层传感器更加优良的连接。

据悉,美新半导体所完成的这一新品磁传感器早已量产并投放市场,其晶圆级封装更是解决了上一代产品特殊封装工艺的问题,并大大提升了产品性能,未来美新半导体还能带来哪些令市场眼前一亮的新产品呢?让我们拭目以待。

关于嘉德



深圳市嘉德知识产权服务有限公司由曾在华为等世界500强企业工作多年的知识产权专家、律师、专利代理人组成,熟悉中欧美知识产权法律理论和实务,在全球知识产权申请、布局、诉讼、许可谈判、交易、运营、标准专利协同创造、专利池建设、展会知识产权、跨境电商知识产权、知识产权海关保护等方面拥有丰富的经验。

(校对/holly)


3.逆势增长!1-10月我国发明专利申请量达123.2万件

集微网消息,据新华网报道,第十二届中国国际专利技术与产品交易会日前在大连召开,国家知识产权局局长申长雨在开幕式上指出,今年前10个月,我国发明专利申请量达123.2万件,同比增长11.2%,PCT国际专利申请受理量5.5万件,同比增长23.5%,均实现了疫情影响下的逆势增长。



图源:网络

在全国专利商标质押融资方面,申长雨表示:“今年前10个月,总额达到1664亿元,同比增长35%,全年有望突破2000亿元。”

另外,他强调,“经济高质量发展,离不开知识产权的有力支撑。”我国正加快制定面向2035年的知识产权强国战略纲要和知识产权“十四五”规划,做好知识产权事业发展的顶层设计,推动知识产权向更高质量创造、更高水平保护、更高效益运用方向发展。

(校对/零叁)


4.ITC驳回SK Innovation关于LG Chem诉讼无效的主张

集微网消息,据thelec报道,美国国际贸易委员会(ITC)驳回了SK Innovation(以下简称“SK”)关于LG Chem(以下简称“LG”)就电动汽车电池技术窃取案提起的诉讼无效的主张。早在今年8月,首尔中央地方法院也驳回了SK提出的同样要求。



图源:businesskorea

SK声称,在ITC的诉讼中,有争议的专利属于其与LG达成的协议,该协议禁止双方就电动汽车电池隔膜专利提起诉讼。

据悉,在ITC,LG和SK共有三起诉讼正在进行。第一起是LG在2019年4月提交的,声称SK窃取了其商业机密。9月晚些时候,SK提起诉讼,指控LG侵犯了其在模块和电池方面的专利。随后,LG提起了反诉,称SK侵犯了其在分离器和阳极材料方面的专利。

就商业秘密诉讼而言,ITC的终裁定于12月10日。关于LG对SK提起专利诉讼的终裁定于2021年7月19日公布,而SK对LG 提起专利诉讼的终裁将于2021年11月30日作出。

(校对/零叁)


5.法院裁定准许歌尔股份撤回对敏芯股份的不正当竞争诉讼

集微网消息,苏州敏芯微电子技术股份有限公司(以下简称“敏芯股份”)发布公告称,公司近日收到了山东省寿光市人民法院出具的《民事裁定书》(案号为:(2020)鲁0783民初2653号)。



图源:敏芯股份

根据裁定书,就原告歌尔股份有限公司(以下简称“歌尔股份”)起诉该公司及公司子公司苏州芯仪微电子科技有限公司、昆山灵科传感技术有限公司、苏州德斯倍电子有限公司不正当竞争纠纷一案,法院裁定准许原告撤回起诉。

据悉,2020年5月23日,歌尔股份向山东省寿光市人民法院提起诉讼,指控敏芯股份及其上述三家字公司存在不正当竞争行为,并请求判令。2020年11月1日,原告歌尔股份提出撤诉申请。

另外,敏芯股份在公告中指出,根据法院的裁定,本次诉讼事项不会对公司的日常生产经营产生负面影响,也不会对公司当期及未来的损益产生负面影响。

(校对/零叁)


6.魅族申请 “Flyme For WATCH”商标,智能手表产品即将上线

集微网11月12日消息,据企查查信息显示,珠海市魅族科技有限公司已申请注册“Flyme For WATCH”商标,国际分类为“9类科学仪器”或“14类珠宝钟表”,商标状态为“注册申请中”。

图源:企查查

图源:企查查

不仅如此,魅族还创建了“魅族智能手表”官方微博账号,认证信息中的“珠海市魅族科技有限公司”也印证了这个账号的真实性。该账号尚未发布任何微博,但在简介中透露:Flyme for Watch,2020 Q4 见。这应该是指魅族手表产品及系统会在第四季度亮相。

图源:微博

今年6月份,魅族就已经官宣了这款智能手表产品,明确表示这款产品将于今年第四季度发布,从海报中的轮廓来看,魅族智能手表采用的是矩形设计,外形应该于现在的小米手表和OPPO Watch差不多。

图源:微博

图源:微博

现在已经11月份了,此前魅族表示智能手表产品今年第四季度发布,预计也就是这两个月了,魅族首款智能手表将会带来哪些惊喜,值得期待。

(校对/零叁)


专利 知识产权

热门评论

集微咨询发布《中国半导体股权投资月刊(2024年2月)》