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王志华教授:集成电路设计技术发展的标志

来源:王老先生的酒肆絮语

#集成电路#

05-20 09:22

编者按:本文发布于公众号王老先生的酒肆絮语,集微网经授权发布。

澳门大学的路延教授,邀请我在第三届华人芯片设计技术研讨会上发言,表示祝贺,我真心的非常高兴。这不是大会主席们为我封了一个荣誉主席的职位我才高兴,我是发自内心的高兴,为中国集成电路设计技术的发展、提高而高兴。

国际固态电子学会议(ISSCC-IEEE InternationalSolid-State Circuits Conference)被誉为集成电路设计领域的奥林匹克竞赛,它不仅代表着集成电路设计领域的最高水平,还被视为信息产业与市场的风向标,这是因为整个信息技术都构建在集成电路之上。路延教授、李强教授、麦沛然教授等青年学者,以ISSCC上发表的学术论文为索引,组织大陆从事集成电路设计的学者、工程师、学生,开展集成电路设计技术的研讨,确实取得了非常巨大的成功,今年报名现场参会的人高达600多人,其中大于1/3来自企业界,这种纯技术的研讨会,有这么多人关注,确实是非常成功,这是中国大陆集成电路产业发展、进步的表现。

回想大陆集成电路设计业的发展的早期,从历年ISSCC上发表论文的数量和质量来看,近几年确实发展很快,中国大陆新涛科技的常仲元(2005),中科院半导体所吴南健组的博士生邝小飞(2006),清华大学王志华组的博士生喻学艺(2008),是大陆企业、研究机构和高校在ISSCC上论文的零突破。此后清华大学、复旦大学等也陆续零星有论文发表在ISSCC 上。

我本人是首个作为完全在大陆接受教育、在大陆工作、没有完整的海外学习经历的学者,能进入ISSCC  ITPC(国际技术委员会)成员的学者。早年作为ISSCC在中国大陆的代表,我曾经在复旦、上海交大、清华等地方多次推介ISSCC,讲过「噪音」的观点。我记得很清楚,早年我曾经讲到,大陆集成电路设计的平均技术水平仍然低,不要对我们现在已经发表论文的状态沾沾自喜,这就好像是电平很低的信号中突发出现了一个尖峰,这个尖峰不是信号本身,是一个噪音。只有到大陆学者每年都有数篇论文发表在ISSCC,同一个课题组每年都持续有论文发表在ISSCC上,才意味着我们的研究者从事工作的水平达到了世界前沿。当时我还引用了孙中山先生的名句“革命尚未成功,同志仍需努力”来勉励学者、学生。

我博士生导师之一李志坚教授(当时我是李志坚教授和刘润生教授联合指导的博士研究生)曾经说过一句话,我至今记忆犹新,大意是“工科教育的水平,说到底与所在国家的工业基础有关。所从事的领域的工业是世界老末的环境下,教育本身只会是世界末流,即使产生一些好的成果(人才),一定是凤毛麟角;在相应领域工业水平达到世界一流的条件下,所在国家的工科教育想不是世界一流都难!”。2012年曾经把这段文字发在我的微博上(王志华_茌平)。

从这几年大陆学者在ISSCC上发表论文的情况来看,每年持续有数篇论文发表,表明我们中国大陆的研究水平显著提高了,大陆学者从事集成电路设计技术的平均水平提高了。从今天注册参会的人数来看,关心集成电路设计的从业者多了。这些现象都表明,中国大陆的集成电路设计工业界的的技术水平有了明显提高。

今天,革命成功了吗?显然还没有。我们的电子信息产业仍然被卡脖子,全球集成电路产品销售额中4500亿美元中,大陆只占不到10%。在高兴之余,这就是革命没有成功的表征。我依然要说:“革命尚未成功,同志仍需努力”

要努力,怎么努力,努力的结果怎么表现?前些日子我调侃说新“发现”了一个“王氏定律”,并把这个所谓的定律发在我自己朋友圈中,一时也有不少朋友礼貌性的点赞,点赞是礼貌,也说明不少同行理解我要表达的意思是什么。

实际上,这个所谓的定律也不完全是调侃。其基本思想是:(1)科学研究应该在集成电路相关领域“做世界上最好的事情,同时让世界上知道我们做的最好”;(2)学术活动应该引导教授、学生们“把我们做的最好的研究成果告诉全球同行”。先告诉同行后告诉公众一般应该是真正好的研究成果(反过来就可能是忽悠)。

同行在哪里?到哪里找同行?在同行认可的期刊(会议)上发表好的论文,就是告诉同行的最有效的方式,好的学术论文的重要标志是经过小同行评审(peer reviewed),而不是某些机构的期刊排名。最近有人讲过医生的例子,一个真正好的医生,不是患者说好,也不是每天说好,是同行真心的佩服TA(这里也有一个例子)。

除了在会议、期刊上发表成果之外,在同行关注的学术活动上演示学术成果,也是让同行知道的有效方法。这里举一个“电报发明”的例子。

今天这个会议的后续的技术分享者,他们发表论文的会议及期刊,就是同行大咖出没的地方,我们的学者,若要表现自己的成果,就应该努力在ISSCC这种同行出没的平台发表论文。

我们今天参加的第三届华人集成电路设计技术讨论会,就是展示大陆学者在集成电路设计技术成果的最好平台之一。

当然,一项工程领域技术成果的真正价值,还是要从该成果对工业、对产业的实质性贡献来看。这个话题以后再详细讨论。简单讲,评价工程领域的一项成果的简单标准就是:

(1)    该项技术在工业界得到了实际应用

(2)    全世界的人(同行+公众)都知道这项成果是你的贡献

为此,我们的科学研究,要“做世界上最好的事情,同时让世界上的人知道是我们最好”。要让世界上的知道,需要先告诉同行,后告诉公众,告诉同行的最好方式是。。。。。。(重要的事情要重复)

通过今天的研讨会报名踊跃,组织者及分享者之年轻有为,我看到了希望。从2004-2015我做了11年ISSCC 的TPC成员,此后还了李宇根老师、洪志良老师、再以后有了你们这些年轻人活跃在这个领域。今天大会的组织者、参与者有我的学生,有我学生的学生,更多的是近年从海外学成回国的青年才俊;会议的参与者有的来自大学,有的来自科研单位,更重要的是很多人来自国内的产业界,由此我看到了希望,看到了光明。我对大家也有一个期望:

我们这一代学者,在集成电路设计领域做到了“世界知名”,我希望你们做到“世界先进”甚至是“世界领先”。相信你们一定能做到。

我们的目标一定要实现,我们的目标一定能够实现。

最后祝研讨会圆满成功,祝大家在研讨会期间有收获。。

王志华

2021年5月20日与深圳

爱集微

作者

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