中微公司首台8英寸CCP刻蚀机PrimoAD-RIE200顺利付运

集微网消息，6月15日，中微公司首台 8 英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备 Primo AD-RIE 200 顺利付运客户生产线。

据悉，Primo AD-RIE 200 是中微公司自主研发的新一代 8 英寸甚高频去耦合反应离子（CCP）刻蚀设备。基于已被业界广泛认可的 12 英寸 CCP 刻蚀设备的成熟工艺与特性，Primo AD-RIE 200 在技术创新和生产效率方面都有了进一步提升，能够满足不同客户 8 英寸晶圆的加工需求。

为提高生产效率，Primo AD-RIE 200 刻蚀设备可灵活配置多达三个双反应台反应腔（即六个反应台）。此外，Primo AD-RIE 200 提供了可升级至 12 英寸刻蚀设备系统的灵活解决方案，以满足客户生产线未来可能扩产的需求。

据了解，中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线，在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。根据公司业绩说明会材料，ICP刻蚀市场规模76亿美元，而CCP刻蚀市场规模仅为48亿美元。

此前，中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付，是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑，标志着刻蚀产品发展迈入新的阶段。（校对/Arden）