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集微咨询:国内SiC衬底企业技术图谱:“产学研”基因凸显

来源:爱集微

#集微咨询#

#第三代半导体#

14天前

国内碳化硅产业化带有的“学研”基因极为突出,“产学研用”已成国内碳化硅衬底领域的重要特色。国内SiC商业化衬底以4英寸为主,逐步向6英寸过渡,与国际主流相比,我国大尺寸SiC单晶衬底制备技术仍不成熟,单晶衬底尺寸仍然偏小。

本文共计2496字

责编: 爱集微

小如

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