东南大学学者突破高选择性湿法刻蚀关键技术

集微网消息，国家自然科学基金委网站日前透露，在该基金支持下，东南大学孙立涛教授团队及合作者在新原理湿法刻蚀及工艺方面取得突破。

目前，湿法刻蚀在半导体制造等领域有广泛应用，但与干法相比，在方向选择性上存在不足，难以得到形貌精确可控的微纳结构，由于在微纳尺度上追踪固-液-气反应三相界面的演变非常困难，长期以来业界缺乏对反应动力学的定量分析和对界面处气体传输机制的准确理解。

孙立涛教授团队基于其自主搭建的原位电子显微学系统，实时观测湿法刻蚀全过程，从原子尺度揭示了刻蚀过程中完整的固-液-气三相反应机制，该成果有望大幅提升湿法刻蚀技术在刻蚀方向、尺寸的可控性，为建立工艺参数-结构尺寸模型，加速工艺研发起到基础支撑作用。

（校对/乐川）