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俄称自行开发光刻机将于2028年问世 可产出7纳米芯片

来源:爱集微

#俄罗斯#

2022-10-22

集微网消息,据台媒报道,俄罗斯科学院发豪语2028年自行研发的光刻机将问世,可生产出7纳米芯片。

据报道,国际制裁对俄罗斯断供后,造成俄国芯片短缺,加以美国、英国和欧盟也祭出多项制裁,几乎所有拥有先进晶圆制造商都停止与俄罗斯实体合作,ARM也无法将他们的技术授权给俄罗斯的芯片设计师。

为此,俄罗斯政府推出一项国家计划,希望2030 年开发28纳米制程,希望靠着对外国芯片进行逆向工程,并培养当地半导体人才。

不过,碍于国际制裁,美欧半导体设备商不能供应俄罗斯,若俄国推进28纳米制程,就必须设计和研发出国产设备。只是,像ASML 和应材(Applied Materials) 这样的公司,得耗费几十年时间开发,更新迭代也必须在大约8年内完成。

但是,俄罗斯似乎一点也不担心,俄罗斯大诺夫哥罗德策略发展机构(Novgorod Strategy Development) 发豪语,宣称俄罗斯科学院旗下应用物理研究所将会跌破所有人眼镜,在2028年开发出可以生产7纳米芯片的光刻机,还可击败ASML同类产品。

俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示,全球光刻机领导者ASML 近20 年来一直致力于EUV 曝光机,目标是让世界顶尖半导体厂商保持极高的生产效率。但俄罗斯并不需要,只要根据俄罗斯国内的需求向前推进即可。

报导直言,俄罗斯的想法似乎太过天真,俄罗斯想在6年内研发出可支持7纳米芯片的光刻机可行性不高,且晶圆厂并非光靠光刻机就可生产出芯片,还需要许多设备,而俄罗斯并不生产这些设备。(校对/王婉青)

责编: 邓文标

张浩

作者

微信:super_hoho

邮箱:zhanghao@lunion.com.cn

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