南大光电：公司ArF光刻胶主要聚焦28cm~90nm工艺节点，目前有多款产品正在验证

集微网消息（文/白雨轩）11月18日，南大光电在投资者互动平台上就“贵司可用于14nm的ArF光刻胶开始投产，正在对客户交付。是否如此?”等问询问题表示，公司ArF光刻胶目前主要聚焦28cm~90nm工艺节点的产品验证。其同时表示，公司ArF光刻胶在国内头部芯片制造企业进行验证，目前有多款产品正在验证，每个产品的验证开始时间不同。

此前，南大光电发布公告称，公司光刻胶技术研发始终坚持完全自主化路线，光刻胶研发中心具备了研制功能单体、功能树脂、光敏剂等光刻胶材料的能力，能够实现从光刻胶原材料到光刻胶产品及配套材料的全部自主化。公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶（包含干式及浸没式）可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点，将实现高端光刻胶的进口替代，提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题。

据了解，南大光电控股子公司宁波南大光电负责组织实施“ArF光刻胶开发和产业化项目”，研发的产品成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，标志着国产先进光刻胶产业化取得关键性的突破。目前公司产品已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在多家客户进行认证，持续推动光刻胶及配套材料产品的研发、验证和产业化

此外，南大光电透露，关于符合公司要求的缺陷检测设备尚未完成采购，公司将根据市场供应情况和验证进度确定采购策略。

（校对/黄仁贵）