拓荆科技:公司产品已进入国内60多条产线 目前在手订单饱满

来源:爱集微 #拓荆科技#
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近日,拓荆科技在接受机构调研时表示,目前公司主要产品包括PECVD、ALD和 SACVD三个产品系列,公司产品研发、验证工作均在正常推进,同时,积极跟进客户的扩产节奏签署订单、交付设备产品,持续提升公司成熟产品的市场占有率。目前公司在手订单饱满。

其进一步称,公司一直聚焦在高端半导体设备领域,专注于薄膜沉积设备的研发与产业化,目前公司产品已经进入国内60多条产线。公司PECVD设备已基本实现PECVD工艺种类的全面覆盖,广泛应用于国内晶圆厂产线,公司后续推出的ALD设备、SACVD设备也在晶圆厂产线实现了量产应用。2022年公司推出的多边形高产能平台、HDPCVD和UV Cure等新产品,这些新产品的研发和验证工作均正常推进。

拓荆科技指出,公司产品已经进入国内 60 多条产线,公司产品在客户端产线的应用量越来越多,但尚未具体统计产品在客户端的占比情况。目前公司产品主要应用于国内晶圆厂,未来几年公司产品的需求量仍以国内晶圆厂的扩产为主。

产能方面,拓荆科技在沈阳总部、上海临港都建有薄膜沉积设备的研发生产基地,可以满足公司目前的产能需求。同时,公司基于超募项目“半导体先进工艺装备研发与产业化项目”,将在上海临港再建设一个研发与产业化基地。未来,公司将结合业务发展情况适时进行产能扩充。

而拓荆科技设立沈阳子公司是基于公司未来发展规划的考虑,有利于促进公司未来发展战略的实施,围绕主营业务不断扩大规模,在高端半导体薄膜设备领域持续深耕,围绕 CVD 技术做深做精,并不断在细分领域内拓展产品、工艺的覆盖面,增强公司盈利能力,提升公司的综合竞争力。

拓荆科技自 2010 年成立至今,一直聚焦在高端半导体设备领域,专注于薄膜沉积设备的研发与产业化。公司现已形成等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,并广泛用于国内集成电路制造产线。

2022年,拓荆科技实现营业收入 17.06 亿元,同比增长 125.02%;实现归属于母公司所有者的净利润 3.69 亿元,同比增长438.09%;实现归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润 1.78 亿元,实现扭亏为盈。

拓荆科技表示,公司 2022 年营业收入和利润高速增长主要原因:受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加,同时公司继续加大产品研发投入,产品结构不断优化,产品竞争力持续增强,

并进一步拓展客户群体,销售订单大幅增加,营业收入维持高增长趋势。同时,公司持续加大研发投入,收入规模不断扩大,期间费用率相对有所下降,规模效应驱动公司盈利水平提高,归属于上市公司股东的净利润和归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润同比有较大幅度提升。

责编: 邓文标
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