中微半导体推出12英寸自主研发LPCVD设备

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近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex™ CW。

Preforma Uniflex™ CW可灵活配置多达五个双反应台反应腔(十个反应台),每个反应腔可以同时加工两片晶圆,在保证较低的生产成本和化学品消耗的同时,实现更高的生产效率。

Preforma Uniflex™ CW配备了完全拥有自主知识产权的优化混气方案及加热台,具有优秀的薄膜均一性、填充能力和工艺调节灵活性,对于弯曲度较大的晶圆,它也具备良好的工艺处理能力。其阶梯覆盖率和填充能力,可以满足先进逻辑器件、DRAM和3D NAND中接触孔以及金属钨线的填充应用需求。(校对/周宇哲)

责编: 武守哲
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