荷兰政府最新的光刻机禁令即将在9月1日正式实施，此举将限制荷兰的光刻机对华出口。光刻机是半导体制造过程中至关重要的设备，我国光刻机设备国产化率基本为零，几乎完全来自进口，而荷兰掌握着世界最先进的光刻机技术，也是我国第一大进口来源国，其宣布光刻机禁令对我国半导体产业无疑是一个重大挑战。
据中国海关总署数据，2022年我国光刻机进口总额39.63亿美元，从荷兰进口额25.48亿美元，占比64.3%。2023年1-7月份，从荷兰进口额为25.86亿美元，同比增长64.8%，7月份进口额为6.26亿美元，同比增长近8倍，环比下降28.4%。
爱集微将通过数据详细解读我国光刻机从荷兰进口情况，发布《中国半导体海关进出口数据-光刻机荷兰进口额》。
进口量逐年提升 阿斯麦垄断高端光刻机
据海关总署数据，2015年-2022年，我国从荷兰进口光刻机总额145.08亿美元，进口总数690台，平均每台超过2100万美元。在此期间，进口金额每年持续增长，2018年起同比大幅提升，2019年和2022年有所回落。
我国从荷兰进口的光刻机几乎完全来自阿斯麦。2015年-2022年，阿斯麦中国大陆销售总额152.32亿美元，与我国从荷兰进口光刻机总额相差不到百分之五，考虑到运费、保险、汇率计算等差异，二者几乎相等。从每年的金额变化情况看，也基本一致。
光刻机进口量反映晶圆厂规模 苏沪京位列前三
按国内分注册地进口情况看，2015年-2022年，共有16个省市进口了光刻机，其中进口量前五的是江苏省（35.48亿美元）、上海市（30.00亿美元）、北京市（14.78亿美元）、湖北省（14.24亿美元）和安徽省（13.40亿美元），占比分别为24.5%、20.7%、10.2%、9.8%和9.2%，合计占比74.4%。
我国各省市光刻机的进口量往往能反映该地区晶圆厂规模及产能情况，集微咨询（JW Insights）分析师表示，光刻机进口量前五的省市也是我国晶圆产能居前的地区。
据集微咨询（JW Insights）统计，江苏地区主要晶圆厂有无锡海力士、华虹、华润微、无锡海辰、和舰科技、南京台积电、扬州晶新；上海地区主要有中芯国际、积塔、上海台积电、华虹、鼎泰匠心、上海格科微、Diodes；北京地区有中芯国际、长鑫存储、赛微电子、燕东微电子；湖北有武汉新芯、长江存储；安徽有晶合集成、长鑫存储等。
1-7月增长64.8% 超阿斯麦全年预期
2023年1-7月份，从荷兰进口额为25.86亿美元，同比增长64.8%，超过了阿斯麦此前对中国地区销售额今年全年的预期，仅在6月和7月进口额即分别达到8.74亿美元和6.26亿美元。
集微咨询（JW Insights）分析师表示，今年5月份日本方面确认了《出口贸易管制令》具体实施时间，荷兰也在6月份宣布了最新禁令将于9月起实施，因此有不少企业会在禁令正式实施之前进口光刻机以满足产能需求。
值得一提的是，据集微咨询统计，2023年1-7月，进口光刻机的省市有上海、北京、湖北、江苏、广东、安徽、浙江、山东、福建、天津、陕西和重庆。
附注：
本文数据统计口径：中国海关编码为“84862031”和“84862039”，商品名称为“制半导体器件或集成电路用的分步重复光刻机”和“其他投影绘制电路图的制半导体件或IC的装置”的海关总署统计数据情况。根据海关总署进出口税则商品及品目注释，该这两类为制造半导体器件或集成电路用的机器及装置中的光刻设备。
光刻设备，用以将电路图案转印到涂有光刻胶的半导体晶圆表面，例如：
1.在晶圆上涂布光刻胶用的设备，包括将液态光刻胶均匀地涂布在晶圆表面上的旋转涂胶机。
2.对已涂布光刻胶的带电路图案（或部分图案）的晶圆进行曝光的设备：
（1）使用掩膜版或光掩膜，并将光刻胶曝光（通常用紫外线），有时用X射线：
①接触式光刻机，曝光时掩膜版或光掩膜与晶圆相接触。
②接近式光刻机，类似于接触式光刻机，只是掩膜版或光掩膜与晶圆之间不发生实际接触。
③扫描光刻机，采用投影技术，对扫过掩膜版与晶圆的一条连续运动的狭缝进行曝光。
④分步重复光刻机，采用投影技术，每次曝光晶圆的一部分。可将掩膜版缩小或1：1地对晶圆进行曝光。增强措施包括使用受激准分子激光器。
（2）晶圆直接写入设备。这类装置不使用掩膜版或光掩膜进行操作，而是采用自动数据处理设备控制的“写入电子束”〔例如，电子束或称E-束、离子束或激光〕将电路图案直接“绘制”在涂布光刻胶的半导体晶圆上。
