8月31日，尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”，可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等，并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。
据官网资料，与现有的尼康i-line光刻机相比，NSR-2205iL1具有出色的性价比，无论何种晶圆材料，都可以优化各种半导体器件的生产。该设备预计将于2024年夏季上市销售。尼康表示，NSR-2205iL1代表了公司在过去二十五年中对5倍光刻技术的最重要更新，该系统的开发是对顾客需求的直接响应，这些光刻系统在芯片制造中发挥着至关重要的作用。
尼康还指出，随着电动汽车、高速通信和各种IT设备的普及，支持这些应用的半导体需求呈指数级增长。这些半导体必须执行各种具有挑战性的功能，因此，设备制造商需要专门的基板和曝光系统来制造这些芯片。
过去尼康通常通过翻新光刻机来满足这些光刻系统的要求。然而，翻新的光刻机供应可能有限，无法满足客户的需求。因此，为了提供额外的灵活曝光设备解决方案，尼康推出了一款新的5倍i-line光刻机，利用与客户密切合作获得的知识，为客户提供专门的解决方案，以满足市场需求，并解决有限和老化的光刻机供应问题。
除了扩展各种功能选项以满足客户多样化的需求外，这款新开发的i-line光刻机还将支持长期的设备生产。
NSR-2205iL1将通过多点自动对焦（AF）、先进的晶圆台平整技术以及宽深度焦点范围（DOF）等多种优点，在高精度晶圆测量的基础上，为各种半导体制造过程提供高生产率，并优化产量水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸的兼容性、高晶圆翘曲容忍度以及灵活的功能（包括但不限于支持SiC（碳化硅）和GaN（氮化镓）加工），NSR-2205iL1 i-line光刻机非常适用于各种应用场景。这款光刻机将提供卓越的性价比，同时满足芯片制造商多样化的需求。
NSR-2205iL1分辨率≦ 350 nm，曝光光源为i-line (365nm波长)，NA为0.45，最大曝光场22 mm x 22 mm。
今年以来荷兰、日本相继出台对华光刻机等半导体设备的限制措施，尼康已受到了影响。近日尼康公布的二季度业绩显示，二季度半导体用的光刻机仅卖出4台，而去年同期是8台；FPD用的光刻机卖了2台，去年同期是7台；整个2季度一共才卖出各种光刻机6台，下滑60%。
