针对光刻机实现突破的问题，苏大维格于9月15日在互动平台进行回应。其称，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。
其进一步称，公司长期从事光刻机的研制，光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所，再到销售给相关企业的发展路径。目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。
虽然苏大维格迅速做进一步解释，但苏大维格还是收到深交所关注函。监管要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途等情况，并核实说明其光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差等。
此外，监管要求苏大维格详细说明纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况险。按照要求，苏大维格需在2023年9月22日前回复关注函。
