韩国公司Chemtronics宣布，将投资170亿韩元，扩大在韩国的EUV光刻胶化学材料生产。该公司生产的产品为超高浓度PGMEA（丙二醇单甲醚乙酸酯），占EUV光刻胶成分的70~80%，目前日本限制其对外出口。Chemtronics表示，将使PGMEA的产能扩大2.5倍。
另一家韩国半导体化学材料商Dongjin Semichem也宣布计划开发新一代高NA光刻胶，以满足未来ASML EUV光刻机数量增长的需求。
2022年，Chemtronics投资200亿韩元在韩国建立PGMEA生产设施，目前的年产量约为1万吨，目标是2025年将产量提高至2.5万吨。该产品的纯度为99.999%（5N），可用于进一步制造EUV光刻胶。
当前EUV光刻胶市场由日本JSR、信越化学、TOK等厂商主导，但是日本限制对韩国、中国等出口。有消息称Chemtronics已向客户交付样品并进行质量验证，如果能顺利通过验证，2024年上半年即可发货。
目前市场上销售的PGMEA含有100~300 ppm的β-亮氨酸（β-leucine）化学物质，对人体有害。Chemtronics公司表示，其PGMEA产品仅含有1~2ppm的微量β-亮氨酸，完全符合客户要求的ESG标准。
（校对/赵月）
