日本Rapidus决定2024年底引入EUV光刻机 员工赴ASML学习

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集微网消息,日本芯片公司Rapidus正在北海道建设芯片工厂,目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司12月5日宣布,决定在2024年年底引入EUV光刻机,并且将派遣员工赴荷兰ASML学习EUV极紫外光刻技术。

Rapidus 2023年以来一直在与IBM、ASML、IMEC等公司合作,目标是今年派遣100名员工至IBM、ASML学习先进芯片技术。截至目前,该公司已雇佣了约300名员工。

作为全球最大的光刻机制造商,也是唯一一家EUV光刻机制造商,ASML此前也决定在日本北海道千岁市设立技术支援部门,就近支持Rapidus芯片工厂。Rapidus第一座工厂“IIM-1”已在2023年9月动工,试产产线预计2025年4月启用,2027年开始量产。该公司表示,在正式量产前,将确保招募1000名员工。

集微网此前报道,Rapidus、东京大学与法国半导体研究机构Leti合作,将研发1nm级别芯片设计基础技术,将在2024年开展人才交流、技术共享。

(校对/赵月)

责编: 李梅
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