12月6日，拓荆科技发布公告称，公司于今日收到政府补助款项人民币4,664万元，全部为与收益相关的政府补助。
据悉，拓荆科技成立于2010年，专注于薄膜沉积领域，是国内唯一一家实现PECVD和SACVD产业化应用的公司，同时在ALD领域也处于国内龙头地位。公司目前已进入到中芯国际、长江存储等国内头部制造企业，同时在海外客户拓展上有所突破。
拓荆科技此前披露的投资者关系活动记录表显示，公司PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等系列薄膜设备均已实现量产，其中，PECVD设备作为公司的主打产品，已实现规模量产，订单量占比相对较高，ALD、SACVD、HDPCVD等新产品正在逐步扩大量产规模。
此外，目前拓荆科技晶圆对晶圆键合产品(Dione 300)已实现量产，并获得复购订单，芯片对晶圆键合表面预处理产品（Pollux）已出货至客户端验证。混合键合设备主要应用于三维集成领域，其未来市场需求规模目前很难量化，随着“后摩尔时代”的来临，预估混合键合设备潜在市场需求和增长空间较大。
（校对/黄仁贵）
