天眼查显示，北京北方华创微电子装备有限公司“半导体工艺腔室及其控制方法”专利公布，申请公布日为2024年10月29日，申请公布号为CN118866735A。
本申请公开一种半导体工艺腔室及其控制方法，涉及半导体工艺技术领域。该半导体工艺腔室包括腔室本体、第一抽气组件和气体净化组件，所述腔室本体设有第一通气孔和第二通气孔，所述第一抽气组件的第一端与所述第一通气孔相连通，所述气体净化组件的第一端与所述第二通气孔相连通，所述第一通气孔可通过所述第一抽气组件和所述气体净化组件与所述二通气孔相连通。该方案能够解决目前刻蚀工艺过程中含卤素的气体容易腐蚀气路管道的问题。
