北方华创“半导体晶片处理腔室及半导体处理设备”专利获授权

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天眼查显示,北京北方华创微电子装备有限公司“半导体晶片处理腔室及半导体处理设备”专利获授权,授权公告日为11月14日,授权公告号为CN111799191B。

图片来源:天眼查

专利摘要显示,本发明提供一种半导体晶片处理腔室及半导体处理设备,该半导体晶片处理腔室包括腔体、设置在该腔体内可沿竖直方向移动的片盒和设置在腔体内的加热组件,还包括温度检测组件,该温度检测组件的检测部为温度检测板,该温度检测板设置在腔体内,且与腔体固定连接,用于检测腔体的内部温度。

据悉,本发明提供的半导体晶片处理腔室,其可以解决现有的热电偶的导线连接安全问题。(校对/刘沁宇)

责编: 刘沁宇
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