在上海举行的 SEMICON China 2026 展会上，日本光学巨头尼康（Nikon）成为焦点。面对全球半导体设备市场剧变，尼康宣布加大对中国市场投入，并提高设备供应优先顺序。此举不仅被视为其在业务低迷下的自救策略，也被解读为借中国市场缺口，正面挑战美国出口管制、力图重返产业高峰的关键布局
回顾尼康近年来的财报，这家曾经的光刻机霸主正经历着前所未有的阵痛。最新数据显示，尼康在过去半年内全球仅销售了 9 台光刻机，且全数集中在成熟制程产品。与此形成鲜明对比的是，荷兰巨头 ASML 在 2025 年创下了 535 台的销量纪录，其中高价值的 EUV 与 DUV 光刻机占据绝大部分。
此外，尼康精密设备业务的年度营业利润暴跌近 90%，仅剩 15.44 亿日元。这种获利能力与市占率的巨大落后，迫使尼康必须在战略上做出极端且具突破性的改变。
尼康的辉煌历史曾让其在全球市场叱咤风云。上世纪 80 年代，尼康凭藉着日本政府推动的 VLSI 计划，成功仿制并超越了美国 GCA 公司，夺得全球霸主地位。当时尼康不仅在技术指标上追平美国，更开创了“保姆式”的客户服务模式，为每台设备配备专属工程师。
然而，技术路线的选择错误成为了尼康的转折点。当 ASML 选择与台积电林本坚合作开发浸润式技术时，尼康执着于传统干式路线的硬体升级，最终导致在 193nm 波长以下的竞争中全面溃败。
硬杠美国制裁 豪赌中国市场战略机遇
随着美国对中国半导体产业的出口管制不断加码，ASML 被禁止向中国出口最先进的 EUV 及部分浸润式 DUV 设备，这在中国市场留下了巨大的供应真空。尼康敏锐地察觉到，这正是其重振旗鼓的最佳契机。
虽然美国政府持续敦促日本协同封锁，但由于尼康的光刻机技术体系中，美国技术占比极低，难以触发“最小比例原则”的强制封锁。这让尼康拥有比 ASML 更大的灵活性来绕过制裁。
在本次展会中，尼康明确表示将为中国市场提供一系列“特色服务”。首先是放开二手 i 线设备与 DUV 光刻机的销售，这对于正处于产能扩张期的中国成熟制程晶圆厂而言，无疑是及时雨。
其次，尼康承诺提供特定的技术升级与移机服务，这意味着现有的中国客户可以透过尼康的原厂技术，延长旧款设备的生命周期并提升性能。这种全流程、深层次的技术支援，实质上是在帮助中国企业建立更稳定的供应链。
降级平台与干式 DUV 的反击
尼康针对中国市场最核心的“武器”，莫过于其最新发表的干式 DUV 光刻机 NSR-S333F。这款设备的研发逻辑极具战略眼光：它是基于尼康旗舰级浸润式光刻机 NSR-S636E 的技术平台，进行“降级”打造而成的产品。
虽然是一款干式设备，但由于继承了先进平台的机械结构与对准系统，其套刻精度（Overlay）达到了惊人的 ≤ 4nm。
与中国国产的干式 DUV 设备相比，尼康的 NSR-S333F 在光源波长与解析度上虽然不相上下，但在商业化成熟度与套刻精度上具有明显优势。这款设备广泛适用于逻辑芯片、储存芯片以及影像感测器的生产。
尼康预计于 2025 年底接受订单，并于 2026 年下半年交付。这种利用先进平台优势降维打击成熟市场的做法，清晰展现了尼康试图在 ASML 无法触及的领域夺回主导权的野心。
尼康的战略能否成功，取决于其能否在美日政治压力下长期保持供应链的稳定。尼康在上海展台的公开表态，本质上是一场商业豪赌：透过深度捆绑中国市场，利用庞大的市场规模带动其精密设备业务的现金流与利润回升，进而反哺其技术研发，试图在下一代半导体设备竞赛中重新获得话语权。
