御微半导体i12-FEB5首发,技术交流与品牌互动亮点纷呈

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6月12日至14日,第三届长春国际光电博览会以“中国光电城 创新赢未来”为主题在长春举行。作为东北地区规模最大的光电盛会,本届展会展览面积达8.6万平方米,汇聚近千家光电企业,聚焦半导体与高端制造、光电传感与仪器、激光技术与应用、汽车电子等产业集群,为产业链协同创新提供了重要平台,助力长春“中国光电城”建设。

御微半导体携核心量检测解决方案亮相A1馆F11展位,三天展期持续吸引专业观众与行业媒体关注。展会期间,吉林省委、省政府及长春市委、市政府多位领导亲临展馆指导,与参展企业深入交流,传递了大力发展光电信息产业的坚定决心。

在Epsilon的尺度上

构建确定性

展会首日,御微正式发布i12-FEB5晶圆边背缺陷检测设备。该产品面向前道先进制程(2x nm及以下节点)和3D IC/HBM封装领域,是国产高端边缘+背面检测系统,已在多家头部客户验证通过,实现国产替代。五大核心卖点——极致检测精度与效率、多维边缘量测、全景扫描、友好软件平台、在线AI智能识别——获现场专业观众高度评价。这一成果离不开上下游光学零部件供应商的紧密协作,也是国产整机与核心部件协同创新的生动体现。

市场总监曾安生受邀在“共筑半导体产业生态:先进光学技术及装备合作发展研讨会”发表主题演讲,指出AI驱动半导体市场高速增长,先进制程演进给量检测带来全新挑战,多技术融合与AI协同是提升良率的关键路径。论坛期间,御微与长春光机所、多家光学零部件企业及高校专家就技术攻关、成果转化等话题展开对话,进一步强化了产业链上下游的联动。

展台集中展示了i6R、i12、HOUYI、Halo、Raptor、APEX-R、APEX-X等主力产品模型,技术团队与来访客户就掩模检测、晶圆量检测等话题进行了多场深入交流。值得一提的是,多家本地光学零部件企业专程到访,探讨配套合作,体现了“零部件—整机—应用”全链条的良性互动。

橘工3.15精准挑战”以公司成立日(2019年3月15日)为目标秒数,吸引众多观众参与互动,成为展台人气焦点。在御微,“精准”是刻进产品里的基因。从掩模版纳米级缺陷检出到晶圆边缘亚微米表征,我们始终追求Epsilon尺度的确定性。一纳米的偏差可能改变良率,一毫秒的误差则考验手感。此外,展台吸引了多位来自高校和科研院所的光电专业人才驻足交流。

责编: 爱集微
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