8月2日，七彩化学在互动平台表示，公司控股子公司绍兴上虞新利化工有限公司“2000吨/年光敏性中间体及600吨/年高性能光刻胶系列产品技改项目” 计划年底投产。
600吨/年高性能光刻胶系列产品主要是用于生产光刻胶组成成分之一光敏剂的原料；产品主要应用于紫外正型光刻胶，此类正性光刻胶在使用时的曝光波长为300-450 nm，曝光波长越短，成像分辨率越高。
此类光刻胶的图形特征尺寸最小可达到200nm。其主要对应显示器、封装OLED，第三代半导体等。据不完全统计，紫外正型光敏剂国内需求量约1500吨/年，全球需求量约5000吨/年。（校对/若冰）
