8月16日，上海新阳在与投资者互动时表示，公司ArF干法光刻胶产品尚在认证中。此外，公司ASML-1400光刻机和ASMLXT1900Gi型光刻机尚处于安装调试状态；ArF浸没式光刻胶产品已有实验室样品，同样在测试阶段。
关于产能方面的问题，上海新阳表示，公司KrF光刻胶规划产能为230吨/年；目前订单量多，但仅KrF光刻胶取得订单，按照原规划产能已经满产。
上海新阳始终坚持以技术主导为核心，通过自主评估设立研发项目，开展产品开发、应用技术开发和生产工艺开发，通过对产品配方的不断优化及应用和生产工艺的提升，持续满足客户对产品性能的要求。
目前，上海新阳在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一，在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化，被国内集成电路生产线认定为Baseline（基准线/基准材料）的数量已超30条，是国内唯一一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点提供超纯电镀液及添加剂的本土企业。同时上海新阳在多个客户全球供应商评比中屡次获得第一名。
上海新阳正在加快开发的第三大核心技术——光刻技术，在集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域有重大突破。同时，积极布局半导体湿法工艺设备、平板液晶显示用光刻胶、化学机械研磨液等业务领域。
对于前景，上海新阳表示，公司主营业务正处于集成电路产业的密集投入及快速增长阶段，仍然保持着规模继续扩大，技术快速提升，产品不断更新的发展趋势；公司作为我国本土半导体材料行业的领先者，将会继续加大研发投入，保持技术领先和行业地位优势。（校对/Andy）
