7月28日，御微半导体首台全自动掩模缺陷检测设备i6R-300顺利发运国内集成电路先进制程生产线。
来源：御微半导体官微
据悉，i6R-300是御微半导体推出的用于集成电路先进制程领域的新一代掩模缺陷检测设备，采用高精度明暗场双检测系统，可以快速高效地同时检测光掩模多个表面上的细微缺陷，并提供缺陷分类、全景检视等功能，为工艺过程控制提供关键数据。
御微半导体官方消息显示，其主要为集成电路制造提供先进装备，聚焦于集成电路光学量检测系统设计与系统集成，围绕集成电路装备自主化，已经形成了掩模版检测、晶圆检测、泛半导体检测、晶圆测量等4大领域6大类量检测产品。（校对/赵碧莹）
