全国有色金属半导体材料标准会在峨眉山市隆重举行

作者： jiwinet 2010-06-14

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全国有色金属标准化技术委员会标准审定会和讨论会于5月10日～5月13日在峨眉山市凤凰湖宾馆召开。全国有色金属标准化技术研究院副院长朱玉华、有色金属半导体标准委员会秘书长贺东江、峨半厂所长吴贤富和党委书记丁国江出席，有研半导体材料股份有限公司、万向硅峰电子股份有限公司、洛阳鸿泰半导体、四川新光硅业科技有限责任公司等近20家单位参加了本次会议。会议由贺东江主持。
　　
　　会上，吴贤富代表峨半厂对本次标准会在峨眉山的召开和各位专家的到会表示热烈欢迎，并介绍了峨半厂的总体发展情况。朱玉华传达了今年国标委标准化工作的新精神，同时明确了下一步全国有色金属标委会的工作重点和工作安排。
　　
　　本次会议审定了《300mm硅单晶》等三项国家标准，会议预审了《高纯砷化学分析方法》五项行标，讨论了《硅材料原生缺陷图谱》等六项行业标准，并对《再生硅料分类和技术条件》等两项行业标准进行了起草任务落实。其中，由峨半厂负责起草的《高纯砷》及《高纯砷分析方法》标准通过了预审，确定6月份最终审定；《高纯锑分析方法》标准通过了讨论，8月份参加预审，年底审定。