近日，御微半导体首台i6R-210掩模全景质量管理产品成功发运，并顺利交付国内先进掩模版生产厂。本次发运的i6R-210是御微首次推出的一款集缺陷检测、双面清洁以及倒版功能于一身的掩模全景质量管理设备。
i6R-210产品作为御微i6R产品线的第三代产品，继承了前两代产品高产率、高精度明暗场检测系统以及操作便捷等特点，通过多项先进技术的导入和功能优化，成功的将应用场景从之前的晶圆厂黄光区延伸至光罩室，并拓展至掩模版生产厂。同时，凭借御微独创的360°照明技术，i6R-210产品已逐步开始建立掩模厂出货检和晶圆厂入库检的闭环管理统一标准体系。
御微半导体i6R-210掩模全景质量管理产品
在晶圆厂中，御微i6R-210产品可应用于黄光区，在曝光前后进行掩模质量控制。相对于传统的掩模版表面颗粒检测方式，i6R-210产品可以检出的缺陷类型更加全面可靠，以帮助客户避免因某些特殊缺陷污染物的漏检，而导致大批量的晶圆报废。同时，在光罩室中，i6R-210产品可应用于掩模版的入厂检测及定期缺陷监控，便于客户进行掩模版管理。
在掩模厂中，为满足客户对于目检替代和出货自动化的需求，i6R-210加入了自动倒版、掩模版双面清洁等功能，尽可能避免了因人工干预而带来的二次污染，减少客户清洗掩模版的频率，成功实现了图形区以外所有区域全覆盖的目标。
i6R-210产品是御微在掩模全生命周期质量控制产品线中重要的一环，将配合御微掩模检测系列产品组成一站式掩模过程控制综合解决方案。
未来，御微将持续加大研发投入、深入剖析客户痛点和需求、不断开发出满足客户需求的新产品，以优质的产品和全面的服务为客户创造更多价值，助力国内集成电路产业健康发展。
