引言
光学邻近效应是指光刻成像分辨率受光衍射影响的现象。当掩模图形的特征尺寸小于光的波长时，光从掩模图形通过后，边角处的光强分布失配，导致最后的晶圆成像相较于原始版图（目标图形）出现边缘圆化、线端缩进、线宽偏差等失真问题。因此为了保障芯片的可靠性，必须使用OPC（Optical Proximity Correction）工具修正掩模图形，以补偿光学邻近效应以及其他可能出现的化学刻蚀效应等问题。下图显示了修正掩模前后的晶圆成像质量对比（红色虚线代表目标图形）。
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产品简介
“芯天成”平台基于规则的版图修正工具EsseRBOPC（Rule-based Optical Proximity Correction）可为各类技术节点提供稳定、准确和高速的工业级全芯片版图修正解决方案，以应对半导体制造工艺中的光学邻近效应、刻蚀效应和良率瓶颈等问题。
EsseRBOPC工作流程
该产品基于分布式计算架构和异种任务智能集群技术、集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎、标签引擎和区域线段化引擎等先进算法，能够高速处理超大规模版图数据，为复杂几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决方案。
应用场景
01基于规则的高效光学临近效应修正
02全部技术节点的刻蚀效应补偿
03定制化局部热点区域修正
产品功能
01基于几何特征的图形选取及操作
02图形特征标签模块（Tagging）
03精确的版图线段化模块（Dissection）
04快速参数化修正模块（Correction）
05严格的内置规则检查引擎（MRC）
06丰富的命令模块和高级脚本语言API接口
EsseRBOPC命令模块
产品优势
统一数据底座
EsseRBOPC与其他“芯天成”工具共享高速数据底座，确保数据的一致性、集成性和追溯性，促进数据共享和协作。
AI及GPU加速技术
采用AI和GPU技术加速算法，提高处理速度。深度学习模型识别复杂的图案特征，有助于更好地校准和修正掩膜以减小光刻误差。
异种任务智能集群的分布式构架
支持不同OPC参数和算法，可轻松扩展集群节点，适应不同光刻需求，并支持任务切换。
高度可定制化的用户编程接口
EsseRBOPC拥有完善的标签命令模块、版图线段化模块、内置规则检查模块等等，并为每个模块提供丰富且灵活的 高级脚本语言API interface， 使用户能够构建自定义解决方案。
分布式运算加速
CPU核数
支持先进技术节点全版图签核验证
EsseRBOPC可以用于验证最新、最小尺寸的技术节点的完整芯片版图的正确性和合规性。
光学邻近效应一直是行业的重大挑战，EsseRBOPC以其功能和优势，为光学邻近效应和可能出现的化学刻蚀效应提供了有效的解决方案。它在高精度版图修正、AI技术应用等方面取得的显著成果，有助于为提高芯片的可靠性和性能提供坚实的基础。
