持续创新！凯世通发布面向CIS的大束流离子注入机

集微网报道，3月20日-22日，SEMICON China 2024在上海新国际博览中心盛大举行，展会吸引了国内外半导体领域众多优秀厂商参展。上海凯世通半导体股份有限公司（以下简称“凯世通”）携旗下多款离子注入机全面亮相此次行业盛会。其中，最吸引眼球的就是最新推出的、面向CIS(CMOS Image Sensor)领域的大束流离子注入机。这是凯世通在常规大束流离子注入机基础上发展而来的一款新产品。

据了解，低能大束流离子注入机在集成电路离子注入机市场品类中需求占比最大，不仅被应用于逻辑制程，在存储、功率、CIS等芯片制造领域也被广泛使用。此次CIS大束流离子注入机的推出表明，凯世通在离子注入机领域的技术已日趋成熟完善，开始向更大范围、更深层次的市场进行拓展。

面向CIS的大束流离子注入机新品“首秀”

图：凯世通SEMICON China 2024展位

据了解，离子注入机与光刻机、刻蚀机是《国家集成电路产业发展推进纲要》明确要求重点发展的三种装备。由于离子注入机系统复杂度极高，涉及多学科技术，开发难度仅次于光刻机，是当前我国半导体产业必不可少又亟待补齐的核心短板之一。

CIS是CMOS摄像模组实现成像的核心元件，近年来，CIS市场蓬勃发展。根据Yole数据，2022-2028年全球CIS市场规模有望从2022年的213亿美元增至290亿美元，年复合增长率为5.1%。除手机、安防等相对传统应用外，汽车、机器视觉等新兴应用的需求增长更加值得关注。CIS已被用于车身前视、后视、环视和舱内监控等诸多场景，机器视觉也在AI、5G的驱动下，对CIS的像素精度、感光能力等提出更高要求。

与常规设备相比，CIS离子注入机对金属污染控制与注入角度控制有着更为严格的要求。CIS的金属污染水平直接影响到器件的暗电流与白噪点，关系着CMOS摄像模组的成像质量。同时，由于CIS器件结构的关系，注入角度控制也是影响CIS器件性能的重要因素，微小的角度偏差往往会导致整个器件出现较大的性能差异。

图：凯世通面向CIS的大束流离子注入机

凯世通市场销售副总经理张长勇介绍，凯世通面向CIS的大束流离子注入机基于凯世通已批量产业化验证的iStellar通用注入平台与光路系统，设备成熟稳定，媲美进口先进机型，同时面向CIS的更高要求，经过多项技术升级与研发创新，具备卓越的金属污染控制、高精度注入角度控制等特点。

据了解，凯世通该款CIS离子注入机已收到客户订单，并将于本月搬入客户产线。

加快产品开发，打造全系列离子注入机产品矩阵

近年来，凯世通的技术成果不仅在于CIS领域。据此前报道，凯世通是国内首家12英寸集成电路大束流离子注入机和高能离子注入机获得验证验收的国产供应商，并且收到了多家新老客户的批量复购订单。

张长勇介绍，基于对离子注入机技术的深耕不辍，凯世通立足正向设计与自主创新，形成了“通用平台+关键技术模块”的产品开发策略，能够根据客户需求与技术趋势，对离子注入机进行按需迭代、持续升级、不断推陈出新。

目前，凯世通在常规低能大束流之外已经形成了超低温、重金属、固态源等系列化产品，产业化应用在先进逻辑、先进存储、先进功率等芯片制造领域，而此次CIS大束流离子注入机的推出，将进一步完善凯世通产品矩阵，拓展CIS领域业务空间，进一步增强凯世通离子注入机市场竞争力。

在谈到凯世通未来的产品开发计划时，张长勇表示，凯世通将继续坚持正向设计的产品开发道路，基于既有技术积累与产业化基础，加速推进现有产品持续升级和新产品开发力度，不断追求技术卓越，打造全系列离子注入机产品矩阵，为客户贡献更多卓越装备。