京东方“一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路”专利获授权

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天眼查显示,京东方科技集团股份有限公司近日取得一项名为“一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路”的专利,授权公告号为CN113571536B,授权公告日为2024年5月7日,申请日为2021年7月26日。

本申请实施例提供了一种光电子集成基板及其制作方法、光电子集成电路。该光电子集成基板包括:衬底、电子元件和光学元件,电子元件位于衬底一侧,包括薄膜晶体管,薄膜晶体管包括半导体有源层;光学元件位于衬底一侧,包括光电二极管,光电二极管包括N型半导体层、本征半导体层和P型半导体层,N型半导体层、本征半导体层和P型半导体层均与半导体有源层同层设置。本申请实施例提供的显示基板的光电子集成基板光电二极管与薄膜晶体管的制作工艺兼容性较高,能够减少mask的数量,降低制造成本,并且可以在确保蓝光信号光吸收的基础上,减少对长波长环境光的吸收,增强光电二极管的光谱选择性,有利于降低误码率。


责编: 赵碧莹
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