1.京东方“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”专利获授权
2.飞骧科技“横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组”专利获授权
3.芯视元“图像数据编码、解码、传输方法和系统”专利公布
1.京东方“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”专利获授权
天眼查显示，京东方科技集团股份有限公司近日取得一项名为“薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板、显示装置”的专利，授权公告号为CN113748521B，授权公告日为2024年9月13日，申请日为2020年3月27日。
一种薄膜晶体管，包括：栅极、栅绝缘层、有源层、离子化非晶硅层、源极和漏极；所述栅绝缘层覆盖于所述栅极上；所述有源层设置于所述栅绝缘层远离所述栅极一侧；所述离子化非晶硅层设置于所述有源层远离所述栅极一侧，所述离子化非晶硅层与所述栅绝缘层接触；所述源极和所述漏极设置于所述离子化非晶硅层远离所述栅绝缘层一侧，所述源极和所述漏极通过所述离子化非晶硅层与所述有源层耦接。
2.飞骧科技“横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组”专利获授权
天眼查显示，深圳飞骧科技股份有限公司近日取得一项名为“横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组”的专利，授权公告号为CN118399912B，授权公告日为2024年9月13日，申请日为2024年6月25日。
本发明适用于半导体工艺技术领域，尤其涉及一种横向激发体声波滤波器的制造方法及射频模组，所述制造方法利用硅基和光敏玻璃各自优异特性，在制造过程中通过对光敏玻璃曝光和退火，获得作为牺牲层的结晶化玻璃，完成图形化转移，这个过程不涉及空腔光刻、刻蚀和镀膜，减少了工艺步骤，能够降低难度和成本，提高滤波器的良率和结构稳定性；同时，结晶化玻璃与未结晶化的光敏玻璃具有高的刻蚀选择比和极低的寄生电阻电容，可简单精确地控制腔体刻蚀，获得理想的空腔结构，并能够降低器件插损，提高滤波器整体性能。
3.芯视元“图像数据编码、解码、传输方法和系统”专利公布
天眼查显示，南京芯视元电子有限公司“图像数据编码、解码、传输方法和系统”专利公布，申请公布日为2024年9月13日，申请公布号为CN118646909A。
本申请涉及一种图像数据编码、解码、传输方法和系统。所述方法包括：接收待传输图像数据；对待传输图像数据的灰阶值对应的二进制数进行数据处理，获得待传输数据信号；其中，数据处理包括灰阶映射处理；对待传输数据信号和系统信号进行信号处理，获得目标传输信号。采用本方法能够提升图像输出的质量和稳定性，并且通过对灰阶值的数据处理，减少了编码过程中产生的信号噪声以及有效改善了图像的整体质量，实现提升图像传输的质量和稳定性的效果。
