天眼查显示，上海微电子装备(集团)股份有限公司近日取得一项名为“垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机”的专利，授权公告号为CN117192917B，授权公告日为2024年12月31日，申请日为2023年09月25日。
本发明提供了一种垂向测量装置、垂向测量方法及光刻机，垂向测量装置包括：照明模块、投影光路模块和探测光路模块，所述照明模块用于提供光束，所述投影光路模块包括扫描反射单元；其中，所述照明模块发出的光束经所述扫描反射单元反射后照射至待测表面，经过所述待测表面反射后被所述探测光路模块接收，所述探测光路模块计算获得所述扫描反射单元角度偏差引起的垂向测量误差和所述待测表面的绝对测量高度。本发明可以计算扫描反射单元角度偏差引起的垂向高度测量误差以及待测表面的绝对测量高度，实现了扫描反射单元角度的监控及测量精度的提升。
