11月14日，深圳清溢光电股份有限公司（简称：清溢光电）佛山南海生产基地投产仪式在南海丹灶举行。
据南海融媒报道，此次投产的清溢光电佛山南海生产基地，包含“高精度掩膜版生产基地”和“高端半导体掩膜版生产基地”两大核心项目，总投资达35亿元，该项目于2023年12月签订合作协议，是佛山市2024年重点建设项目。该基地的投产标志着佛山在半导体核心材料领域的布局取得关键突破，国内掩膜版产业国产化替代进程迈出坚实步伐。
其中，高精度掩膜版生产基地建设项目将分三期进行建设，合计拟投资20亿元，用于新建高精度掩膜版生产线主要生产8.6代及以下高精度FPD掩膜版。应用于a-Si、LTPS、AMOLED、LTPO、MicroLED等平板显示掩膜版产品，特别是应对AMOLED用高精度掩膜版的需求（含建设中的8.6代AMOLED），填补国内空白，实现高端掩膜版的国产化替代。
高端半导体掩膜版生产基地建设项目将分三期建设，合计拟投资15亿元，用以建设180nm-28nm高半导体掩膜板生产基地。该项目的实施能够实现更高节点的高端半导体掩膜版的开发及产业化。
清溢光电是国内成立最早、规模最大的掩膜版生产龙头企业之一，由著名爱国实业家、原全国政协常委、香港工业总会名誉主席唐翔千于1997年创办。该公司产品主要应用于平板显示、半导体芯片等行业，多次打破国外垄断、填补国内空白，代表了中国掩膜版产业的领先技术水平。
2025年11月，清溢光电佛山高端半导体掩膜版生产基地引入佛山第一台电子束光刻机，电子束光刻机是制造尖端半导体掩膜版的“王牌”设备，它的入驻正式开启了佛山高端半导体用掩膜版的制造历史，未来将向28nm目标发起冲击。
投产仪式上，深圳清溢光电股份有限公司总经理姜巍表示，高精度平板显示掩膜版基地的投产，将提升公司在大尺寸、高世代面板领域的技术水平；高端半导体掩膜版基地将聚焦180-28nm制程，助力解决我国半导体产业链的“卡脖子”问题，提升产业自主可控能力。
掩膜版作为平板显示与半导体制造的核心关键材料，其技术水平直接影响终端产品的性能与质量。长期以来，国内高端掩膜版市场多被境外厂商占据，成为制约相关产业发展的瓶颈。清溢光电南海生产基地的投产，将提升我国高端显示掩膜版的自给率，降低产业链供应链风险。
据悉，作为制造业重镇，佛山已初步构建完整的半导体产业链生态，覆盖材料、设备、设计、制造、封测等全环节。截至2024年底，该市半导体及集成电路领域规模以上企业109家，培育国家级专精特新“小巨人”9家，实现产值129.08亿元，为产业高质量发展奠定了坚实基础。
