中国台湾高检署侦办台积电2nm核心关键技术窃密案，查出前工程师陈力铭跳槽日商TEL公司后，为得知「蚀刻机台」量产测试数据，买通时任工程师吴秉毅、戈一平窃取参数配方，去年依违反国安法起诉名3名工程师，分别求处重刑；检方侦办期间，台积电另名陈姓员工窃取核心技术给陈力铭，且TEL卢姓员工也有湮灭证据，今对3人及TEL追加起诉。
起诉指出，陈力铭侦查中坦承犯行，主动供出陈姓共犯，让检方顺利查获陈男，因此求处7年徒刑，如法院认为符合国安法减轻其刑规定，建请依法减刑。陈姓员工犯后态度欠佳，求处有期徒刑8年8月。
卢姓员工知悉被告陈力铭遭台积公司发觉犯行后，为图卸责，删除陈力铭上传的相关档案，有妨害刑事案件调查的行为，且犯后否认犯案，求处1年徒刑。东京威力公司于本案查证过程中，均依检察官要求提供相关事证，配合调查，对厘清案情尚有助益，求处罚金2500万元。
高检署指出，检察官在侦办期间，为厘清TEL是否符合国安法第8条第7项所称「尽力为防止行为」的要件，查发觉该公司于云端硬碟内，尚存有台积国家核心关键技术项「项次19」，也就是「14nm以下制程之IC制造技术及其关键气体、化学品及设备技术」等营业秘密资料，清查是陈姓员工所窃取。
高检署去年11月10日，指挥调查局新竹市调查站，前往云林、台南搜索陈姓员工住居所，向法院声请羁押禁见获准。
