比利时半导体研究机构imec 周三(18 日) 表示，已取得一台由荷兰半导体设备大厂艾司摩尔( ASML-US ) 制造的High NA 极紫外光(EUV) 微影设备，价值约4 亿美元。这款设备全球仅有不到十台，被视为下一代芯片制造的重要关键设备，将协助产业推进更先进制程技术的研发与测试。
imec 指出，这台High NA EUV 设备将成为其「NanoIC」试产线的核心设备。该试产线总投资规模达25 亿欧元，其中约14 亿欧元来自公共资金，包括欧盟《芯片法》(EU Chips Act) 提供的支持。 imec 长期采用共享研发模式，让半导体企业与研究机构在类似晶圆厂的环境中，共同测试并开发最新制造技术。
High NA EUV 被视为EUV 技术的下一代升级版本。所谓High NA(高数值孔径) 指的是设备采用更大的光学孔径，概念类似相机镜头，使得芯片电路图案能够缩小至更精细的尺度。艾司摩尔表示，High NA 系统可让芯片结构尺寸缩小最多约66%，有助于提升芯片运算速度并降低能耗。
包括英特尔( INTC-US ) 与SK 海力士在内的芯片制造商，正准备利用High NA 设备制造下一代人工智慧(AI) 逻辑芯片与高频宽记忆体(HBM)，预计最早在2027 年开始导入量产。
imec 过去曾协助ASML 开发EUV 技术，如今也与多家半导体设备商建立合作关系，包括应用材料( AMAT-US )、科林研发( LRCX-US )、科磊( KLAC-US ) 以及东京威力科创(Tokyo Electron)。透过这些合作，imec 成为全球芯片企业测试与整合下一代制造设备的重要研发平台。
艾司摩尔目前是全球唯一能生产EUV 微影设备的公司。该设备利用极紫外光将电路图案「印制」到芯片晶圆上，是先进制程不可或缺的关键技术。
imec 执行长范登霍夫(Luc Van den hove) 表示，取得这台High NA EUV 设备，将进一步巩固欧洲在全球半导体价值链中的关键地位，也有助于提升欧洲在芯片技术上的战略自主与技术主权。
