5月14日，南大光电接受投资者提问时表示，目前193nm光刻胶产品正在测试阶段，该项目的实施主体是子公司宁波南大光电材料有限公司。
由于光刻胶产品验证周期较长，通常需要18个月，甚至更长的时间。即使验证通过后，客户也会谨慎地使用国产光刻胶产品，逐步放量。ArF光刻胶是一个高难度、高投入，高风险，回报周期长的高科技项目。南大光电称，公司光刻胶产品力争年底通过客户验证，公司目前没有芯片的研发生产计划。
据了解，光大光电专注于电子材料三大领域，力争实现“MO源全球第一，电子特气国内一流，193nm光刻胶成功产业化”。 公司将在新基建的发展中，紧紧抓住“替代进口”的机遇，为国内集成电路产业的发展突破瓶颈和国产化做出积极的贡献。
南大光电称，193nm光刻胶项目相关的国家、地方和自筹资金都陆续按计划到位。电子特气是公司的战略性业务之一，公司将立足于自力更生、自主研发，同时积极寻找符合公司战略目标的电子特气合作伙伴。
面对疫情突发，LED、LCD和IC行业面临挑战，南大光电一手抓防疫，一手抓生产，主动出击，全力拓展国内外客户，实现了销售快速增长，尤其是特气产品的销售，对公司业绩发挥了重要作用。公司将积极努力实现全年的经营目标。（校对/Lee）
