上海新阳去年净利增长30倍,今年Q1净利增长59%

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4月24日,上海新阳发布2019年年度报告称,公司实现营业收入为6.41亿元,同比增长14.54%;实现归属于上市公司股东的净利润为2.1亿元,同比增长3059.82%。

上海新阳表示,公司净利润较去年大幅上升主要有两方面的原因,一是公司将持有的上海新昇26.06%股权置换成硅产业集团7.51%股权及剩余股份按公允价值计量的投资收益两部分,增加了公司净利润26,183.30万元;二是报告期公司根据评估机构的评估结果,对全资子公司考普乐2013年资产重组时形成的商誉计提减值准备7,427.88万元,上述两方面因素轧抵增加公司净利润18,755.42万元。

2019年,上海新阳半导体业务营业收入27,270.54万元,较去年上升5.49%。其中:晶圆超纯化学材料随着行业规模的扩大和国产化替代的加快,营业收入实现快速增长,达到7,294.94万元,较去年增长82.09%;受行业景气度下降及市场竞争加剧两方面影响,传统封装化学材料实现营业收入13,113.45万元,较去年下降17.34%;另外,公司氟碳涂料业务加快产品结构转型升级,一方面持续研发改善节能环保优质高效的氟碳粉末涂料,另一方面向氟碳涂料下游延伸。公司涂料业务营业收入36,820.03万元,较去年增长了22.31%。

长期以来,上海新阳在半导体传统封装领域功能性化学材料销量与市占率全国第一,在集成电路制造关键工艺材料领域芯片铜互连电镀液及添加剂、蚀刻后清洗液已实现大规模产业化,被国内集成电路生产线认定 为Baseline(基准线/基准材料)的数量为24条。公司是国内唯一一家能够为晶圆铜制程90-28nm技术节点 提供超纯电镀液及添加剂的本土企业。公司正在加快开发第三大核心技术——光刻技术,在集成电路制造 用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶领域已有重大突破。同时,积极布局半导体硅片、半导体湿法 工艺设备、平板液晶显示用光刻胶等业务领域。

关于光刻胶,上海新阳称,公司已研发获得多个KrF厚膜、ArF干法光刻胶产品配方、工艺数据和技术参数,得到了多次可重复的实验室曝光结果,关键曝光参数已经达到了光刻生产工艺对商用光刻胶可以进行中试产品验证的基本要求。

在研发投入方面,2019年上海新阳研发投入总额5,303.22万元,占本期营业收入的比重为8.27%,其中半导体业务研发投入占半导体业务的比重为15.35%。在产品研发方面主要集中于集成电路制造用光刻胶、大马士革电镀添加剂、干法蚀刻清洗液、氮化硅和氮化钛蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、氟碳粉末涂料等项目,其中大马士革电镀添加剂、氮化硅蚀刻液、化学机械研磨后清洗液、氟碳粉末涂料项目均取得了突破性的进展。 

关于未来战略计划,上海新阳称,公司在半导体材料行业已实现了从集成电路制造用基础材料的大硅片到集成电路制造关键工艺材料再到先进封装电镀清洗材料、传统封装引线脚工艺化学材料产业链的布局,并实现集成电路制造用关键工艺材料的大批量销售。我们要继续向半导体材料行业产业链深入发展,加速已布局的集成电路制造关键工艺材料与先进封装工艺材料研发、验证进度及大规模化销售的提升,加快集成电路用高端光刻胶产品的研发并早日实现突破。

与此同时,上海新阳还发布今年一季度业绩报告称,公司实现营业收入1.27亿元,同比下降2.82%;实现归属于上市公司股东的净利润为0.1亿元,同比增长59.45%。

上海新阳称,本报告期,公司营业收入较上年同期下降,主要是受新冠疫情影响,涂料业务营业收入下降较多;净利润较上年同期有较大幅度增长,主要是公司集成电路制造用关键工艺化学材料业务增长幅度较大。(校对/Lee)

责编: 邓文标
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