集微公开课第九期笔记:维安第三代超级结硅MOSFET,手机快充的最佳选择!

来源:爱集微 #集微公开课#
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4月30日(周四)上午10点,第九期“集微公开课”邀请到上海维安半导体有限公司功率器件产品应用技术专家郭建军,带来以《风华绝代,比肩GaN的第三代超级结硅MOSFET》为主题的精彩演讲。

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本次公开课,郭建军以MOSFET工艺演变、维安第三代超级结硅MOSFET特性以及与氮化镓MOSFET实测数据对比,让工程师了解到风华绝代、比肩氮化镓的第三代超级结硅MOSFET在手机快充中的应用优势和产品趋势。

充电器发展趋势

快充是充电器的一个发展趋势,目前充电器最大的充电功率可以达到100W,市面上有18W、30W、40W、65W等各个功率等级的产品,功率密度也在日益增加,最高达1.4W/cm³。

对比65W GaN快充和65W Silanna EVB(评估板)快充的数据来看,采用GaN技术的功率密度为1.2W/cm³,采用超级结硅技术的功率密度为1.18W/cm³,差异非常小。

同时,高效率也是充电器的一个发展趋势,电源适配器目前的最新能效已经到了6级能效,从上述图表来看,最低的效率要求到了70%以上。

传统平面MOSFET 的封装尺寸较大、功耗高、温升高、效率低;而超结MOSFET的尺寸比较小,可以做贴片封装,因而带来了高效率和低温升的效果。

MOSFET 工艺的演变

从MOSFET 的发展历史来看,1970年第一款vertical MOSFET(垂直结构MOSFET)诞生,到1980年衍变为DDMOS(双扩散结构MOSFET),再衍变为VDMOS (垂直扩散结构MOSFET )和LDMOS(横向扩散结构MOSFET )。

硅 MOSFET 工艺优化改进有两个方向,中低压<200V MOSFET的演变方向是沟槽栅向屏蔽栅(SGT)工艺演变。

不过,虽然工艺已经有改进,但仍受制于Si极限,因此,业界引入了硅超级结的工艺,SJ-MOSFET 打破了硅极限,主要针对高压方向500-1200V super junction 工艺,兼顾了高电压和低电阻的特性。

SJ-MOSFET 主要有多次外延和深沟槽两种工艺,采用多次外延工艺的MOSFET成本偏高、生产周期长,但开关特性接近于传统的VDMOS,EMI(电磁兼容)特性也相对更好。而采用深沟槽工艺的MOSFET技术难度偏高,成本有优势,交付周期偏短。

相对于第二代工艺,维安第三代深沟槽工艺是基于8英寸工艺实现的,品质因数FOM下降了24%,pitch更小、开关电荷较低,并且成本较低,性价比更高。

超结技术硅和氮化镓MOSFET对比

对比SJ-MOSFET 与GaN E-HEMT 结构来看,GaN是横向结构,无掺杂低杂质,可以实现高电子迁移率,而SJ-MOSFET 是一个垂直结构的器件。从材料来看,SJ-MOSFET 仅采用硅材料而GaN是采用Si 衬底以及GaN、AlGaN 多种材料复合而成,工艺难度较大。

从两种器件的截面图来看,SJ-MOSFET是垂直型结构,GaN 是平面型结构。

从两种器件的等效电路模型来看,SJ-MOSFET 寄生body diode具有雪崩特征,GaN 无雪崩特性。因此,GaN在耐电压特性方面并不如意。

在开关损耗/结电容方面,SJ-MOSFET 在0-40V的开关损耗较大,而GaN的开关损耗较小且变化较小。

从功率器件的关键参数来看,SJ-MOSFET 在反向阻断能力、反向阻断耐量、正向导通表现更好,而GaN HEMTs在正向导通表现更好,不过,这对EMI方面却并不利。

SJ-MOSFET充电器与GaN充电器的对比

小米65W GaN充电器内部结构比较紧凑,内部空间运用得比较极致,其PCB尺寸是31mm*31mm*56.2mm,功率密度是1.2W/cm³。

Silanna ACF(有源钳位)65W的评估板采用了维安第三代深沟槽工艺的SJ-MOSFET,其PCB尺寸是50mm*50mm*22mm,功率密度是1.18W/cm³,集成高压有源钳位FET,整体效率可以到达93%以上 。


Silanna ACF 65W 解决方案初级MOSFET采用的是WML14N65C4,同步整流MOSFET采用了WMB129N10T2,负载开关MOSFET为WM06DN03D。

从板端效率测试来看,采用维安SJ-MOSFET的Silanna评估板待机功耗远低于100mW,符合标准,而两者的平均效率差异不大,都远远超过标准要求。

在运行波形方面,维安第三代SJ-MOSFET开关频率为92.05kHz,电流最大值为2.36A,但GaN的耐压值为452V,非常低,但驱动电压为5.2V,开关频率为374kHz,非常高。

超级结硅MOSFET和GaN HEMTs 主要差异CGS+CGD(VDS), 硅MOSFET结电容相对较大,故最大使用开关频率比GaN小,上图硅开关频率是GaN的1/4;高开关频率不可忽视的是磁性器件的损耗,比如变压器磁滞损耗、涡流损耗和气息损耗。

维安SJ-MOSFET 创新封装

对比友商的产品,采用维安PDFN8x8封装的65W PD 适配器实测效率更高。

目前,三星 ELENTEC/15W以及三星S10 5G版原装25W USB-C充电器均有采用维安的产品,并实现了大规模交付。

郭建军表示,从元器件层面来看,硅器件更有价格优势,一个4英寸的氮化镓晶圆成本大概是1万元,但是8英寸的超级结硅晶圆成本在1万元以内,同时,氮化镓器件比硅器件的封装要求高很多,这也导致其封装成本更高。

此外,郭建军指出,工程师在硅器件方面积累了丰富的设计和实践经验,在某些情况下,硅可以实现比氮化镓更高的效率,因此,在选择功率开关时,业界需要考虑成本、稳定性等因素,硅器件依然有很多的空间能被业界所采用。

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(校对/艾禾)

责编: 慕容素娟
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