日企将为Rapidus量产尖端光掩模，面向2nm制程

作者：刘昕炜 03-27 10:22

来源：爱集微 #掩模# #DNP#

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大日本印刷（DNP）近日宣布，计划为日本半导体公司Rapidus研发并量产用于2nm制程芯片的最尖端光掩模产品，预计2027年实现量产。此外，日本凸版（Toppan）公司也将开发最尖端的光掩模。

日本Rapidus正努力实现在日本生产2nm制程半导体的目标，这也是日本新能源和产业技术综合开发机构（NEDO）委托的“后5G信息通信系统平台强化研究开发业务”的一环。

DNP计划在2024年内，在日本国内工厂引进2台在光掩模上绘制细微电路图形的专用设备，计划首先投入总额500亿日元资金（约合23.8亿元人民币）。该公司计划于2027年，在光掩模的主要生产厂上福冈工厂开始量产面向2nm半导体的光掩模产品。

（校对/孙乐）

责编：赵月

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