理想晶延受邀出席光伏技术风向标大会

2024年3月28-29日，由摩尔光伏主办、行业大咖云集的第六届光伏电池组件发展趋势与可靠性技术研讨会在北京隆重召开。理想晶延半导体设备（上海）股份有限公司（简称“理想晶延”）受邀出席活动，公司工艺技术总监苏青峰博士以《PET边缘钝化技术助力光伏电池提效》为主题，与现场嘉宾分享了公司EPD设备在半片电池侧壁钝化上的创新技术和应用效果，并就光伏电池进一步增效进行了交流探讨。

大会上，苏青峰博士深入浅出地讲解了理想晶延EPT边缘钝化技术和EPD设备的独特优势与创新突破。他表示，公司技术团队针对侧面镀膜难、绕镀大、兼容性差、产能小等工艺痛点，研制出适应电池侧切面镀膜量产高产能ALD反应腔体，采用腔体兼容性设计方案解决了电池绕镀大的难题并满足焊接拉力的要求，符合侧切面边缘镀膜适配电池印刷线产能的工艺节拍需求。EPD设备具有完全自主知识产权的全自动镀膜系统、前驱体区隔系统和自动化传输系统，使电池侧切面镀膜边缘钝化全自动量产达到所需的膜厚、绕镀、均匀性等多项关键指标。该产品通过对半片或多切片电池切面提供有效钝化，显著提升了光伏电池组件转换效率。

目前，理想晶延EPD设备已批量出货，电池提效和设备产能等指标获得客户现场工艺验证。同时，公司着重核心技术应用于高效生产，针对行业电池车间现有产线和新增产线设计了完善的量产方案，确保产品达到高品质、高效率、高水平的生产标准，可满足客户多元化定制需求。

未来，理想晶延将以推动光伏与半导体高端装备的创新发展为己任，秉承“以客户为中心、专业专注、相互尊重、共同成就”的经营理念，持续深耕行业前沿薄膜沉积工艺技术，深入研制经济可靠的设备产品和工艺方案，赋能客户技术创新、产品升级以及价值创收，助推新能源和集成电路产业蓬勃发展。