12月14日，由半导体投资联盟主办、爱集微承办的“2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼”在上海·上海中心圆满举行。
典礼现场，苏州佑伦真空设备科技有限公司（以下简称“佑伦真空”）荣获本届IC风云榜“年度最具成长潜力奖”！该奖项旨在表彰具有成长潜力的行业新兴企业，助力投资人和项目方更好地洞悉市场环境和行业趋势，推进企业跨越式发展。
佑伦真空2016年成立以来，集研发、设计、生产、销售、服务一体化，迅速成长为薄膜沉积设备领域的领军企业。公司聚焦半导体及泛半导体领域，近3年业绩呈高速增长态势，先后获得“国家高新技术企业”、“江苏省专精特新中小企业”、“苏州市工程技术研究中心”、“第十三届中国创新创业大赛高端装备制造全国赛优秀企业”等荣誉称号。2023年5月，佑伦真空获元禾重元、苏创投、国发创投、顺融资本共同参与的近亿元A轮融资，充分彰显其在技术创新和研发实力方面的巨大潜力。
凭借优异表现，佑伦真空一举斩获本届IC风云榜“年度最具成长潜力奖”。
研发方面，佑伦真空始终以创新为导向，展现出卓越的技术领导力。其创新性地提出双枪共蒸镀双腔共蒸发技术，提升蒸镀协同性与精准度；研发出高均匀性大面积平面蒸镀技术，保障大面积基底薄膜沉积的均匀性；同时，研发的双泵增强高真空蒸镀技术，有效的稳固了高纯度、高稳定性的蒸镀环境，为半导体设备制造构筑技术高地。目前，其已完成10个薄膜沉积机种（涵盖80个系列）的研发、验证、批量供应，成功开发出均匀性达0.3%以内的高精度薄膜沉积设备，可动式修正版任意切换，满足多种复合膜并存工艺，实现了高均匀性、高重复性、高稳定性的性能保障，广泛应用于LED芯片、半导体（分立器件、功率器件、IC集成）、光学膜（光刻机光栅镀膜和激光芯片镀膜）、太阳能、滤波器、科研等六大领域，为国内众多半导体领域知名客户、研究单位提供了稳定可靠的薄膜沉积设备。
在知识产权方面，佑伦真空围绕高端薄膜沉积设备建立了知识产权保护群，拥有授权知识产权137项：其中发明专利23项、实用新型专利73项、软件著作权30项、外观专利11项，申请中的知识产权超65项。
在体系建设方面，佑伦真空在生产管理、质量管理、供应链管理等重要方面制定了规范、严谨的流程，目前已通过欧盟CE认证体系、ISO9001质量体系、ISO14001认证体系、ISO45001认证体系,成熟的管理体系和强大的管理能力将为薄膜沉积项目的顺利实施奠定基础，助推项目顺利落地，实现公司快速稳定发展的战略目标。
应该说，在推进半导体行业实现自主可控发展的过程中，佑伦真空秉承“用真空技术改变人类生活和科技进步”的企业使命，通过持续的研发投入，不断夯实核心竞争力，进一步加速薄膜沉积设备的深度开发，扩大薄膜沉积的品种，为薄膜沉积设备领域国产化率的持续提升贡献佑伦力量，推动国内半导体产业的健康发展。
作为中国集成电路领域的重要风向标，IC风云榜的影响力和关注度逐年攀升，记录和展现行业的辉煌成就与蓬勃发展，成为半导体行业内最具影响力的奖项之一，吸引全球数以万计的专业人士和投资者的目光。
评选结果经过半导体投资联盟超100家会员单位、500多位半导体行业CEO共同担任的评委会投票产生。IC风云榜深受业界的认可与青睐，它不仅表彰了众多在技术创新、产品设计制造、行业资本管理及运作、产业链上下游集群建设等方面作出突出贡献的企业，也见证了企业在获奖后市值的显著增长和品牌的国际影响力提升。
