随着光刻技术向先进制程推进，光掩模量测的精度、效率与缺陷管控能力，正成为制约先进制程落地的关键环节。10月14-15日，第九届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2025）将在深圳重磅启幕，这场覆盖光刻全产业链的顶尖盛会，将汇聚全球业界精英共探技术前沿。爱德万测试将携核心设备亮相展会，以专业解决方案助力光掩模的精准量测与缺陷把控。
爱德万测试展位信息
展位号：B04
时间 ：10月14-15日
地点：深圳 五洲宾馆五洲厅
亮点产品抢先看
多视角量测扫描电子显微镜 E3650
E3650采用爱德万测试专有电子束扫描技术，以更高的精度和稳定性测量光掩模上的精细图案尺寸。适用于前沿光掩模的生产及制造。 E3650具备以下优势：
大范围量测
稳定卓越的量测效率
优越的长期稳定性
超多点量测技术
与上一代产品相比，E3650的量测效率提高了一倍，能够大规模测量更加复杂的图案以及因多重图案而增加的光掩模数量，是高端制程中不可或缺的量测利器。
缺陷复查扫描电子显微镜 E5620
E5620作为新一代缺陷复检与分类系统，专注于光掩模和掩模基板上的超小缺陷识别与分析，具有如下特点：
支持与缺陷检查装置的协作
全自动缺陷画像捕捉
全自动元素成分分析
可追加CD量测功能
E5620可搭载CD量测功能，作为量测机台使用。一机两用，可有效降低用户的运营成本。
关于IWAPS 2025
IWAPS覆盖光刻设备、工艺制程、计量检测、掩模材料、计算光刻、系统协同优化及新型技术等全产业链 ，依托深芯盟产业优势与湾芯展生态资源，为 “产、学、研、投” 提供技术对话与合作窗口。
