涉及高端光刻机、半导体光刻胶等 2021年度国知局专利专项研究项目立项名单公布

作者：刘沁宇 2021-06-04

来源：爱集微 #集成电路# # 半导体# # 专利#

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集微网消息，6月3日，国家知识产权局办公室印发2021年度专利专项研究项目立项名单的通知，其中研究项目涉及集成电路领域知识产权保护，量子通信技术、光电集成电路产业、高端光刻机产业、半导体光刻胶等专利分析研究。

具体来看，包括集成电路领域知识产权保护规则研究，项目承担单位是中南财经政法大学、最高人民法院知识产权法庭；量子通信技术专利分析研究，项目承担单位是国家知识产权局专利局通信发明审查部、北京量子信息科学研究院；光电集成电路产业专利分析研究，项目承担单位是华中科技大学、武汉光电工业技术研究院有限公司；高端光刻机产业专利分析研究，项目承担单位是国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心；半导体光刻胶专利分析研究，项目承担单位是南京工业大学、江苏省知识产权保护中心。（校对/若冰）