LVL，即Layout Vs Layout，在现代芯片制造的工艺中，LVL是一种用于集成电路（IC）后端物理验证的EDA（Electronic Design Automation）软件，它的主要作用是快速比较两个版图，并报告它们的之间的差异。因此，LVL在芯片验证中被形象地称为“大侦探”。

在芯片设计环节或流片后，设计人员对设计局部进行一些小的修改与调整可谓是“家常便饭”。而当设计人员修改版图后，通常需要与原始版图进行比对，以确认修改结果是否符合预期。这个过程需要不断对比、修改和优化，以确保芯片流片的成功，考虑到芯片流片成本的高昂性质，“大侦探”LVL在确保一次成功的芯片流片过程中扮演着至关重要的角色。

修改后

国微芯LVL工具团队自主创新，开发出了一整套性能卓越的LVL系统架构，并拥有完整的自主知识产权，发布了一款市场化应用的“绝佳利器”——芯天成物理验证平台EsseDiff，这款产品融合了国微芯自主研发的数据底座，高效的几何匹配算法并首创成功应用了分布式系统在LVL点工具领域。

为什么说国微芯自主研发的LVL工具——芯天成物理验证平台EsseDiff是在芯片版图中实现“大海捞针”的绝佳利器呢？

芯天成物理验证平台EsseDiff是基于国微芯自主研发的数据底座开发的，能够在极短的时间内快速读取版图中的图形信息。通过结合国微芯自主创新的几何图形快速识别匹配技术和分布式系统架构，EsseDiff能够以极快的速度准确找到超大规模集成电路版图中亿万图形的差异，实现了在芯片版图中的“大海捞针”。

其中，实现以极快速度解决超大规模集成电路版图的核心关键技术是国微芯自主研发的几何运算引擎和分布式系统架构。国微芯物理验证平台采用了分布式系统架构，能够处理从大到小、由小至微的过程，将庞大的数据分解成可处理的部分；并可根据运行的资源条件，实现了线性的运行效率提升，运行速度远超市场上竞品工具。

芯天成物理验证平EsseDiff凭借经验丰富的物理验证团队和专业的研发工程师支持，能够为各类技术节点提供稳定、准确、高效的工业级别全芯片版图比对方案，为客户“量身定制”以应对在先进制程的半导体工艺中所发生需要进行快速、准确的比对需求。帮助客户加快产品开发周期、提高测试效率、降低成本、保障芯片可靠性，并缩短产品上市时间，提升市场竞争力。EsseDiff工具目前还在不断优化中，未来可以达到更优越的速度表现。

未来，国微芯将坚持“自主创新，让造芯更便捷”的企业愿景，持续投入研发，提升技术实力和创新能力；也将持续秉持着“客户至上”的服务理念，不断改进和优化芯天成物理验证平台EsseDiff，为客户提供更加卓越的解决方案。