荷兰半导体设备制造商 ASML (ASML-US) 周三 (28 日) 证实，其大型新型高数值孔径极紫外光 (High-NA EUV) 光刻系统已经“初见端倪”。这是一个里程碑，代表该光刻机虽然尚未发挥全部性能，但已开始运作。
英特尔 (INTC-US) 技术开发主管凯勒赫 (Ann Kelleher) 在周二 (27 日) 于圣荷西举行的 SPIE 光刻会议演讲中首次提到这一进展。而 ASML 证实凯勒赫的言论是准确的。
光刻系统使用聚焦光束来蚀刻电脑芯片的微小电路。ASML 的高数值孔径极紫外光工具的大小相当于双层巴士，每具成本超过 3.5 亿美元，预计将有助于实现新一代更小、更快的芯片。
第一个高数值孔径工具位于荷兰 Veldhoven 的 ASML 实验室，第二个工具正在俄勒冈州希尔斯伯勒附近的英特尔工厂组装。
包括台积电 (TSM-US) 和三星在内的先进芯片制造商预计将在未来 5 年内采用该工具。英特尔在上周活动中表示，打算在其 14A 代芯片的生产中使用该工具。
凯勒赫在演讲中表示，位在荷兰 Veldhoven 的机器已经看到“抗蚀剂晶圆上的第一道光”，意味着该机器已用于对经过光敏化学品处理的矽晶圆进行测试，以便准备接收电路图案。
ASML 发言人表示，“近日”已经达到第一个初步里程碑。
