日前有机构预计，2023年至2033年，化学机械平坦化(CMP)抛光液市场将以7.7%的复合年增长率增长，2023年，该市场总规模预计达到25亿美元。
在蓬勃发展的半导体行业的推动下，全球CMP抛光液市场正在经历显著的增长。作为半导体制造中的关键成分，CMP抛光液在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥着关键作用。随着技术进步不断重塑半导体格局，对CMP抛光液的需求从未如此之高。
分析指出，半导体行业通常被视为现代技术的支柱，近年来一直在快速崛起。智能手机的普及、物联网的兴起以及人工智能应用的增长等因素引发了人们对更小、更快、更强大的微芯片的强烈需求，这种需求激增促使半导体制造商突破创新界限。对于更先进的芯片制造而言，CMP抛光带来的精度、产量、工艺效率提升至关重要。
分析机构特别谈到，北美在半导体市场的主导地位推动CMP抛光液需求，北美引领全球半导体市场，对CMP抛光的需求有望增加，主要来自微电子芯片制造商。
